在脫硫石膏粉生產(chǎn)線，脫硫石膏生產(chǎn)工藝中養(yǎng)護(hù)條件對(duì)脫硫石膏返霜的影響：采取三種不同的養(yǎng)護(hù)條件，分別是空氣中(20±2℃，RH=30~40%)養(yǎng)護(hù)7天、水中養(yǎng)護(hù)7天和標(biāo)準(zhǔn)養(yǎng)護(hù)室（20±2℃，RH=90±5%）中養(yǎng)護(hù)至7天，其中在水中養(yǎng)護(hù)的試件只有三分之一浸在水中。

不同的養(yǎng)護(hù)條件對(duì)返霜的影響差別很大，當(dāng)養(yǎng)護(hù)在水中時(shí)，返霜現(xiàn)象非常明顯，且返霜量非常大?？諝庵叙B(yǎng)護(hù)時(shí)，輕微泛堿。養(yǎng)護(hù)室中表面出現(xiàn)輕微凸起。

不同的養(yǎng)護(hù)條件下返霜規(guī)律不同的原因：三種養(yǎng)護(hù)條件下的環(huán)境濕度大不相同，因此，環(huán)境中可蒸發(fā)水的數(shù)量也不相同。空氣中養(yǎng)護(hù)，蒸發(fā)水來自于未參與石膏水化的自由水；養(yǎng)護(hù)室養(yǎng)護(hù)時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)養(yǎng)護(hù)室中的濕度較大，蒸發(fā)水來自于養(yǎng)護(hù)室中的水；水中養(yǎng)護(hù)時(shí)，環(huán)境濕度非常大，蒸發(fā)水主要來自于養(yǎng)護(hù)試件所用的水池。隨著環(huán)境的濕度逐漸增大，石膏制品中可溶性鹽離子的遷移速度不斷增大，最終遷移到石膏制品表面的可溶性鹽離子也就較多，所以，返霜的程度也越來越嚴(yán)重。

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